在使用铟进行焊接或润湿（涂层）时，我们经常会被问到铟的氧化物形成以及如何去除氧化物的问题。下面的程序将帮助您更好地了解氧化铟、去除氧化铟以及去除氧化铟后的处理方法。
室温下，铟表面形成的氧化物厚度在 80-100 埃之间。一般来说，这种氧化物的厚度不会妨碍铟与基底的润湿，尤其是在使用助焊剂的情况下。
如果在应用中需要无氧化物接头，而又不能使用助焊剂，则可按照以下步骤轻松去除氧化铟：
- 用异丙醇或丙酮清洗铟，去除表面的有机物。晾干。
- 在 10% HCl 中蚀刻铟 1 分钟，以去除表面氧化物。
- 用去离子水冲洗铟以除去酸。
- 用异丙醇或丙酮冲洗铟，除去水分。
- 用干氮吹干或晾干。
一般来说，刚蚀刻好的铟一暴露在空气中，其表面就会开始形成氧化物，此时氧化层的厚度在 30-40 埃之间，暴露在空气中 2-3 天后，氧化物就会达到 80-100 埃的钝化厚度。
请注意：
在蚀刻过程中，必须注意将铟单元分开，以免它们粘在一起。如果它们粘在一起，很难在不使铟变形的情况下将它们分开。
如果蚀刻后的铟不能立即使用，建议存放在氮气干燥箱中，或者将蚀刻后的铟浸没在干净的丙酮中，以防止暴露在空气中。